Pošaljite upit za proizvod
Sputtering općenito znači izbacivanje atoma iz cilja u čvrstom stanju bombardiranjem ubrzanim plinskim ionima. Ova se tehnika često koristi za taloženje tankih filmova. Postoji DC raspršivanje za sve elektronički vodljive tvari, RF raspršivanje za izolatore, ali i za provodnike, kao i reaktivno raspršivanje (argon + mala količina reaktivnog plina).